日本 ULVAC 爱发科 ST200-R G-TRAN 系列多电离真空计，高真空在线监测单元

真空技术广泛应用于半导体溅射镀膜、真空热处理、光学镀膜、材料实验等领域，真空度的稳定控制直接决定工艺成品率。高真空环境下压力测量难度大，普通真空计测量量程有限，更换维护成本高。日本 ULVAC 爱发科 ST200-R G-TRAN 多电离真空计采用分体式传感器设计，规管可单独更换，无需整体更换主机，大幅降低真空系统长期运维成本，是真空设备主流的高真空测量组件。

ST200-R 为通讯型号，搭载 RS232C 与 RS485 串行通讯接口，可以直接接入上位机、PLC 控制系统，实时上传真空压力数值，支持远程设置压力阈值、查看设备状态、导出压力曲线数据，适配自动化产线闭环控制。同系列 ST200-A 为纯模拟输出版本，ST200-R 通讯功能更适合自动化真空产线、实验室程控真空系统。

产品采用三极型热阴极电离规测量原理，相比传统 BA 规，抗污染能力更强，灵敏度衰减速度慢，在工艺气体、轻微污染工况下依然可以维持稳定测量精度。核心灯丝采用 Ir/Y₂O₃铱钇氧化物材料，灯丝使用寿命更长。仪器搭载灯丝寿命预警功能，实时监测灯丝功耗，在灯丝损坏前发出预警提示，提前安排规管更换，避免生产过程中真空计突发失效，造成工艺中断、产品报废。

这款真空计采用模块化分体设计，主机与规管相互独立，可搭配 SWT-16（KF16）、SWT-25（KF25）多款规管，也可外接皮拉尼单元扩展测量量程，实现从低真空到高真空宽区间压力监测。规管损坏时仅更换前端传感器即可，主机可重复继续使用，大幅降低备件采购成本。整机体积紧凑，相比前代产品控制器体积缩减 56%，方便在狭小真空腔体机柜内安装布局。

ST200-R 支持 3 组压力设定点继电器输出，可在真空系统达到目标压力时触发外部动作，例如开启阀门、启动镀膜电源、触发报警。设备支持 PC、安卓设备连接调试，可在电脑端完成参数设定、趋势图查看、CSV 数据记录，方便工艺人员调试真空工艺，留存真空工艺参数用于工艺复盘。设备自带电子轰击除气功能，可清除规管内壁吸附气体，恢复测量精度，长期维持真空测量稳定性。

应用领域方面，半导体行业用于溅射、蒸发镀膜设备腔体真空监测；热处理行业真空淬火、真空钎焊炉高真空压力监控；光学镀膜机、真空封装设备配套使用；各大高校、科研院所真空实验平台，用于材料表面分析、真空物理实验压力采集。ULVAC 作为日本真空领域头部品牌，G-TRAN 系列真空计曾获得日本真空工业会奖项，产品稳定性经过大量工业真空产线验证。

真空系统的稳定性，取决于真空压力监测元件的可靠性。ST200-R 模块化设计、通讯功能、灯丝预警三大核心优势，解决传统电离真空计寿命短、更换成本高、无法远程监控的痛点。对于自动化真空产线，它不仅是压力测量元件，更是真空工艺闭环控制的关键一环，助力企业稳定真空工艺，减少不良品产生，广泛应用于半导体、光学、热处理及科研真空设备领域。