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发布时间:2026/2/23
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一、核心技术参数(41°×25° 标配版)
1. 红外探测基础参数
探测器类型:高动态红外 CMOS 探测器
有效像素:764×480
像素尺寸:15μm×15μm
光谱响应:0.85–1.1μm(短波)
视场角(标配):41°×25°
空间分辨率:1.3mrad
2. 测温性能参数
测温范围:450℃–1800℃(连续无分段)
帧频模式:32Hz/80Hz/1kHz(线扫描模式)
响应时间:1ms
热灵敏度 NETD:<1K@700℃;<2K@1000℃
测温精度:符合工业级高温校准标准
发射率校正:支持数字化可调,适配金属等高反材质
3. 接口与结构
输出:模拟输出 + 数字输出
软件:标配分析软件,支持 SDK 二次开发
结构:紧凑型工业设计,适配产线集成
防护:支持冷却、吹扫附件,适应高温多尘环境
二、短波高精度核心优势
短波抗反射,金属测温更准
0.85–1.1μm 波段对金属、光亮表面发射率更友好,显著降低反射干扰,解决长波红外在高温金属上 “测不准、波动大" 痛点。
宽温无分段,全程稳定
450–1800℃连续测温,无需分段切换,适配冶炼、铸造、热处理、玻璃成型等全流程温度监测。
高速采集,适配自动化产线
1kHz 帧频 + 1ms 响应,支持快速运动工件、瞬态加热、高频感应工艺的实时测温与成像。
41°×25° 广角,覆盖效率更高
标准广角视场,单次成像覆盖更大区域,减少安装数量与调试成本,适合炉口、辊道、连续板材等场景。
三、工业场景适配性
1. 冶金与金属加工
连铸、锻造、热轧、淬火、退火温度场监测
感应加热、火焰淬火、铝 / 铜材轧制测温
解决光亮金属表面反射导致的测温误差
2. 玻璃与高温材料
玻璃料滴、浮法玻璃、钢化、管材加工
陶瓷烧结、耐火材料、新材料高温研发
3. 半导体与电子制造
晶圆退火、外延、CVD/PVD 工艺温度监控
高温封装、回流焊、元器件可靠性测试
4. 工业炉与热能装备
窑炉、烧结炉、热处理炉内部温度分布
炉门、管道、换热器热损耗与安全检测
四、总结
欧普仕 PI1M 41°×25° 以短波高精度、宽温连续测温、高速采集、广角适配为核心竞争力,精准匹配金属、冶金、玻璃、半导体等高温工业场景的测温痛点。其标准化参数与模块化设计,既可作为手持巡检设备,也可快速集成到自动化产线,为生产稳定、质量管控、能耗优化与安全生产提供可靠数据支撑。