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TOPCON/日本拓普康亮度色度均匀性测量器UA-20CT 拓普康亮度色度均匀性测量器是一系列用于精确测量光的亮度和色度均匀性的仪器，以下为你介绍其常见型号及特点、工作原理、应用领域等方面的内容： 常见型号及特点 UA-20C 系列高像素成像：配备 2450 万 CMOS 相机，有效像素达到 5328×4608，可实现高精细测量。
中村现货：日本ORC光刻系统EDi系列EDi-8310 兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场景。 宽频谱光刻：具备宽带曝光功能，可根据配方自动切换 GHI 线、GH 线、I 线，满足不同光刻工艺对波长的需求。
中村库存：日本ORC光刻系统EDi系列EDi-8308 兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场景。 宽频谱光刻：具备宽带曝光功能，可根据配方自动切换 GHI 线、GH 线、I 线，满足不同光刻工艺对波长的需求。
原装新品：日本ORC光刻系统EDi系列EDi-5308 兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场景。 宽频谱光刻：具备宽带曝光功能，可根据配方自动切换 GHI 线、GH 线、I 线，满足不同光刻工艺对波长的需求。
原装新品：日本ORC臭氧发生器ARV-O3ME 兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场景。 宽频谱光刻：具备宽带曝光功能，可根据配方自动切换 GHI 线、GH 线、I 线，满足不同光刻工艺对波长的需求。
中村到货：日本ORC臭氧发生器ARV-O3MG 兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场景。 宽频谱光刻：具备宽带曝光功能，可根据配方自动切换 GHI 线、GH 线、I 线，满足不同光刻工艺对波长的需求。
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