日本SEN日森：光学表面处理设备 SSP-48
工作原理
光分解作用：可同时发射波长 254nm 和 185nm 的紫外光，这两种波长的光子能量能够直接打开和切断有机物分子中的共价键，使有机物分子活化，分解成离子、游离态原子、受激分子等。
光敏氧化作用：185nm 波长紫外光的光能量能将空气中的氧气（O₂）分解成臭氧（O₃）；254nm 波长的紫外光的光能量能将 O₃分解成 O₂和活性氧（O）

日本SEN日森：光学表面处理设备 SSP-48

日本SEN日森：光学表面处理设备 SSP-48

工作原理

光分解作用：可同时发射波长 254nm 和 185nm 的紫外光，这两种波长的光子能量能够直接打开和切断有机物分子中的共价键，使有机物分子活化，分解成离子、游离态原子、受激分子等。

光敏氧化作用：185nm 波长紫外光的光能量能将空气中的氧气（O₂）分解成臭氧（O₃）；254nm 波长的紫外光的光能量能将 O₃分解成 O₂和活性氧（O）。活性氧原子（O）有强烈的氧化作用，与活化了的有机物分子发生氧化反应，生成挥发性气体（如 CO₂、CO、H₂O、NO 等）逸出物体表面，从而清除粘附在物体表面上的有机污染物。

应用场景

电子行业：可用于液晶显示器件、触摸屏、半导体硅芯片、集成电路、高精度印制电路板等的表面清洗，去除光刻胶、油污、指纹等污染物，提高后续工艺的良品率和可靠性。

光学行业：能对光学器件、石英晶体等进行清洗，去除表面的灰尘、油污和有机杂质，保证光学性能和成像质量。

材料处理领域：用于各种基材的预处理，如金属和玻璃，可改善表面润湿性，提高对粘合剂、油漆和涂料的附着力。

其他领域：在密封技术、带氧化膜的金属材料处理等方面也有应用，有助于提高材料的表面性能和使用寿命。

高效的清洗能力：像其他 SEN 日森光学表面处理设备一样，SSP-48 或许能发射特定波长的紫外线，利用紫外线的光分解和光敏氧化作用，快速有效地去除光学表面的有机物污染物，如指纹、油污、光刻胶残留等，使光学表面达到较高的清洁度。

精准的处理效果：可能配备了高精度的光学系统和控制系统，能够精确控制紫外线的照射角度、强度和时间，确保在处理光学表面时，不会对光学元件的性能和精度造成影响，可满足不同光学元件的表面处理需求，如透镜、棱镜、反射镜等。

良好的稳定性：SEN 日森作为专业的设备制造商，其产品通常具有较好的稳定性和可靠性。SSP-48 可能采用了优质的材料和优良的制造工艺，在长时间的运行过程中能够保持稳定的性能，减少设备故障和维护成本。

灵活的操作方式：或许具备多种操作模式和参数设置选项，用户可以根据不同的光学表面处理要求，灵活调整设备的工作参数，如照射时间、功率等，以达到最佳的处理效果。同时，可能还具有友好的人机界面，方便操作人员进行操作和监控。

可能的应用领域

光学镜片制造：在光学镜片的生产过程中，用于镜片表面的清洗和预处理，去除镜片表面的杂质和污染物，提高镜片的透光率和成像质量，为后续的镀膜等工艺提供良好的表面基础。

光学仪器生产：可用于显微镜、望远镜、相机镜头等光学仪器的光学元件表面处理，确保光学元件的表面质量，提升光学仪器的性能和可靠性。

光通信行业：对光通信领域中的光纤连接器、光模块等光学部件进行表面处理，去除表面的灰尘和油污，改善表面的光洁度，提高光信号的传输效率和稳定性。

半导体制造：在半导体制造工艺中，用于光刻环节中光学掩模板等部件的表面清洗，保证光刻精度，提高半导体芯片的制造良率。