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产品型号:PL1-1107A
更新时间:2025-03-12
厂商性质:经销商
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日本SEN日森真空清洗设备PL1-1107A技术参数真空度:可达到 0~0.001Torr,能有效营造真空环境,为清洗过程提供稳定的基础条件,确保清洗效果。
紫外光波长:可同时发射 185nm 和 254nm 的紫外光,利用这两种波长紫外光的特性进行光分解和光敏氧化反应,实现高效清洗和表面处理。
照射尺寸:照射尺寸为 300×400mm,可满足一定尺寸的工件清洗需求,能够用作生产机器,适用于批量生产中的表面处理。
日本SEN日森真空清洗设备工作原理:与其他 SEN 日森的 UV 清洗设备类似,该设备利用 185nm 波长紫外光将空气中的氧气分解成臭氧,254nm 波长的紫外光将臭氧分解成氧气和活性氧。活性氧具有强烈的氧化作用,与工件表面的有机物污染物发生氧化反应,使其分解成挥发性气体逸出,从而达到清洗和表面处理的目的。
应用场景光学领域:可用于透镜和棱镜的清洁和表面改性,去除表面的油污、灰尘、指纹等污染物,提高光学元件的透光率和成像质量,改善表面的光学性能。
电子行业:对各种基板材料进行预处理,如半导体硅片、印制电路板等,去除表面的有机物杂质,提高基板表面的清洁度和润湿性,有利于后续的光刻、镀膜、焊接等工艺的进行,提高产品的良品率和可靠性。
材料处理:能对金属和玻璃等材料进行表面处理,改善表面润湿性,提高材料对粘合剂、油漆和涂料的附着力,增强材料的表面性能和使用寿命。