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中村供应：日本ORC臭氧发生模块ARV-M1000A 兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场景。 宽频谱光刻：具备宽带曝光功能，可根据配方自动切换 GHI 线、GH 线、I 线，满足不同光刻工艺对波长的需求。
现货库存：日本ORC臭氧发生模块ARV-M500A 兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场景。 宽频谱光刻：具备宽带曝光功能，可根据配方自动切换 GHI 线、GH 线、I 线，满足不同光刻工艺对波长的需求。
现品库存：日本ORC臭氧发生模块ARV-M1000A 兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场景。 宽频谱光刻：具备宽带曝光功能，可根据配方自动切换 GHI 线、GH 线、I 线，满足不同光刻工艺对波长的需求。
中村库存：日本ORC臭氧发生模块ARV-M500A 兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场景。 宽频谱光刻：具备宽带曝光功能，可根据配方自动切换 GHI 线、GH 线、I 线，满足不同光刻工艺对波长的需求。
中村到货：日本ORC臭氧发生模块ARV-M300D/A 兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场景。 宽频谱光刻：具备宽带曝光功能，可根据配方自动切换 GHI 线、GH 线、I 线，满足不同光刻工艺对波长的需求。
中村现货：日本ORC臭氧发生模块ARV-M100D/A 兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场景。 宽频谱光刻：具备宽带曝光功能，可根据配方自动切换 GHI 线、GH 线、I 线，满足不同光刻工艺对波长的需求。
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