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产品型号：WD4MS-VFC-N-589
更新时间：2026-02-02
厂商性质：经销商
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晶圆制造日本KITZ隔膜阀 防颗粒高洁净
采用 316L 不锈钢阀体，可选 EP 电解抛光处理，适配超高纯工况。搭载 VFC 精准流量控制功能，零死角无积液流路设计，从源头降低颗粒污染风险，匹配晶圆制程中高纯工艺流体输送需求。支持免工具更换阀座，维护便捷，密封性能优异且无泄漏，满足半导体洁净室严苛标准，是晶圆制造高纯流体控制的优选阀件。
晶圆制造日本KITZ隔膜阀 防颗粒高洁净
专为晶圆制造行业量身打造的高洁净流体控制核心部件，聚焦半导体晶圆制程中高纯流体输送的严苛需求，以防颗粒、高洁净、精准控制为核心亮点，适配TEOS等高纯液体材料输送，广泛应用于晶圆氧化、光刻、薄膜沉积等关键工序，是保障晶圆制造良率的精密流体控制解决方案。
该隔膜阀采用高适配性结构设计，核心材质选用316L不锈钢，分为STD标准型与EP电解抛光型两种配置，其中EP型经专业电解抛光处理，内表面粗糙度Ra≤0.4μm，可有效减少流体滞留和颗粒吸附，从源头降低晶圆制程中的颗粒污染风险，10级以上洁净室运行标准，契合晶圆制造对环境洁净度的要求。阀体采用零死角、无积液流路设计，避免流体残留导致的交叉污染，适配高纯试剂、特种气体等晶圆制造核心工艺流体的输送需求。
作为晶圆制造专用款，其核心优势集中在防颗粒、高洁净与精准控制三大维度。防颗粒设计贯穿整体结构，不仅优化了流路弧度，减少流体湍流产生的颗粒，还采用专用隔膜材质与PCTFE阀座，兼具优异的密封性与耐磨性，避免阀座磨损产生颗粒杂质，同时通过严格的原厂洁净检测，确保产品出厂时无多余颗粒残留，适配晶圆纳米级制程的洁净要求。
VFC精准流量控制功能是该型号的核心技术亮点，可实现流体流量的精细化调节，适配晶圆制造中不同工序对流体流量的差异化需求，调节精度高、稳定性强，有效保障工艺参数的一致性，助力提升晶圆生产良率。阀门采用手动驱动方式，270°旋转手柄操作便捷，同时 actuator直径达39.7mm，可适配40mm线间距安装，适配晶圆制造设备的紧凑布局，安装灵活性强。
维护便捷性与耐用性大幅贴合工业生产需求，支持用户侧免工具更换阀座组件，无需拆卸整个阀门，有效缩短维护时间，降低设备停机成本，同时阀座组件与WD4手动阀系列通用，便于备件储备，进一步控制长期运行成本。产品耐受温度范围为-10℃至80℃，使用压力可达2.94MPa，耐腐蚀性强，可适配晶圆制造中各类工艺化学品的输送，使用寿命长达5-8年，长期运行稳定性优异。
该产品严格遵循日本KITZ原厂生产标准，经过多道精密加工与检测工序，符合半导体行业高纯流体控制的相关标准，同时通过了严苛的密封性能测试，确保零泄漏运行，避免高纯流体泄漏造成的工艺异常与安全隐患。无论是大型晶圆厂的批量生产，还是实验室的小批量研发，WD4MS-VFC-N-589隔膜阀都能凭借其精准的控制性能、优异的洁净度与高适配性，成为晶圆制造高纯流体控制的优选部件，助力半导体行业高效、稳定生产。
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