13548726171
13548726171
产品中心
产品型号：WD4CS-VFC
更新时间：2026-02-02
厂商性质：经销商
访问量：67
服务热线13548726171
产品分类
相关文章
开滋KITZ 原装 超高纯流体控制隔膜阀
专为超高纯液体（如半导体 TEOS）控制设计。内部流道 Ra≤0.125μm，确保流体纯度。核心优势为用户可自行更换阀座与隔膜，显著降低维护成本。技术参数：1/4" F-CVC 连接，Cv 值 0.23，工作压力 0.98MPa，工作温度 - 10℃至 80℃。符合 SEMI 标准，适配半导体、FPD、LED 等精密制造，实现精准流量控制与零泄漏，是超高纯流体系统的可靠选择。
开滋KITZ 原装 超高纯流体控制隔膜阀
是日本开滋（KITZ）专为超高纯流体控制系统研发的核心部件，主打可重建型气动控制，广泛适配半导体、FPD、LED等精密制造领域，用于TEOS等超高纯液体的精准输送与控制，凭借严苛的材质标准、精密的结构设计和稳定的性能表现，成为超高纯工况下的优选阀门产品，全程保障流体纯度与工艺稳定性。
材质方面，该阀门采用EP级电解抛光316L不锈钢阀体，选用超低非金属夹杂物的优质原材料，经专业电解抛光工艺处理后，阀体内表面粗糙度Ra≤0.125μm，部分区域可达到Ra0.1μm以下，能有效减少流体残留与颗粒吸附，避免污染超高纯介质，同时显著提升钝化膜稳定性，增强阀体抗点蚀能力，适配各类腐蚀性超高纯流体工况。密封系统采用镍钴合金隔膜搭配PCTFE密封材质，成型工艺，个体差异小，脱气率低、耐腐蚀强，可实现严格的零泄漏控制，外部泄漏量达1.0×10^-10Pa・m³/sec以下，内部泄漏量达1.0×10^-9Pa・m³/sec以下。
结构设计上，WD4CS-VFC采用可重建型结构，核心优势的是用户可自行拆卸更换阀座与隔膜，无需整体拆解阀体，大幅缩短维护时间、降低维护成本，区别于KD、VLD等不可重建型系列，更具经济性与实用性。阀体采用紧凑直通式设计，1/4" F-CVC（母头VCR）标准连接方式，1/4"CVC规格内容积约1.36cm³，可大幅提升气体置换效率，减少残留介质对工艺的干扰；配备90°带锁旋钮，操作便捷且能有效防误触，契合工业安全生产规范。
核心技术参数精准适配超高纯工况：驱动方式为气动常闭（NC），Cv值0.23，流量控制精准稳定；工作压力0.98MPa，工作温度范围-10℃至80℃，环境温度范围-10℃至60℃，可满足多数常温低压超高纯流体控制需求；产品严格遵循SEMI标准与ROHS环保指令，生产、清洗、包装全程在超洁净环境下完成，经十余项质量检测，确保产品洁净度与性能一致性。
产品优势突出，除可重建、零泄漏、高洁净三大核心特点外，还具备优异的化学兼容性，能适配半导体制造中各类超高纯试剂与气体，保障制程纯度，提升芯片良率；紧凑的结构设计可节省安装空间，适配精密设备的集成安装；日本品质，质量稳定可靠，使用寿命长，能有效减少设备停机频次，降低生产损耗。
适用场景主要集中在超高纯流体控制领域，包括半导体晶圆制造、FPD液晶面板生产、LED芯片制造等行业，可用于超高纯液体、气体的输送与控制，也可适配医疗制药领域的高纯度试剂输送，契合GMP认证标准。购买时需确认完整型号（含材质、连接方式），建议通过开滋代理商采购，确保原装与专业售后支持。
当前位置：
上一个：
返回列表
