日本USHIO牛尾MIKASA光刻机MA-10B 操作方式与对准精度：属于手动操作、接触式对准曝光机，使用对物镜 20× 时，对准精度 1.2μm，能够较为精确地将掩模上的图案对准到晶圆或基板上，保证图案转移的准确性。

日本USHIO牛尾AR镀膜激光器HL67011DG$n技术参数波长：中心波长为 671nm，波长精度在 ±3nm。$n输出功率：可实现 200mW 的高可靠光输出功率。$n工作温度：能在 75°C 的高温下稳定工作。$n增益带宽：增益峰值 10nm 或更高，可通过温度控制自由调节。$n反射率：采用设计和优良薄膜沉积技术，正面设计反射率小于 0.1%。$n产品优势宽增益带宽：与传统的镀膜法布里 - 珀罗。

日本USHIO牛尾激光仪器 HL63703HD 防反射 （AR） 涂层 LD 产品采用 Ushio 设计和优良的薄膜沉积技术，正面设计反射率为 0.1%。 与传统的镀膜法布里-珀罗 LD 相比，宽增益带宽使其成为外腔波长可调谐激光器的理想选择，因为它们可以与衍射光栅和干涉滤光片结合使用，以产生具有窄线宽的特定波长模式的激光振荡。它可以广泛用于量子技术（光晶格时钟、激光冷却）和光谱学的应用。

日本USHIO牛尾AR 镀膜半导体激光管HL70021DG 防反射 （AR） 涂层 LD 产品采用 Ushio 设计和优良的薄膜沉积技术，正面设计反射率为 0.1%。 与传统的镀膜法布里-珀罗 LD 相比，宽增益带宽使其成为外腔波长可调谐激光器的理想选择，因为它们可以与衍射光栅和干涉滤光片结合使用，以产生具有窄线宽的特定波长模式的激光振荡。它可以广泛用于量子技术（光晶格时钟、激光冷却）和光谱学的

日本USHIO牛尾AR 镀膜半导体激光管HL69001DG 防反射 （AR） 涂层 LD 产品采用 Ushio 设计和优良的薄膜沉积技术，正面设计反射率为 0.1%。 与传统的镀膜法布里-珀罗 LD 相比，宽增益带宽使其成为外腔波长可调谐激光器的理想选择，因为它们可以与衍射光栅和干涉滤光片结合使用，以产生具有窄线宽的特定波长模式的激光振荡。它可以广泛用于量子技术（光晶格时钟、激光冷却）和光谱学的

日本USHIO牛尾激光仪器HL67011DG AR 镀膜半导体激光管 防反射 （AR） 涂层 LD 产品采用 Ushio 设计和优良的薄膜沉积技术，正面设计反射率为 0.1%。 与传统的镀膜法布里-珀罗 LD 相比，宽增益带宽使其成为外腔波长可调谐激光器的理想选择，因为它们可以与衍射光栅和干涉滤光片结合使用，以产生具有窄线宽的特定波长模式的激光振荡。它可以广泛用于量子技术（光晶格时钟、激光