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KASHIYAMA日本樫山工业原装现货真空泵SDE120TX 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
KASHIYAMA日本樫山工业真空泵中村库存SDE20N12TX 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
KASHIYAMA日本樫山工业真空泵中村库存SDE30N20 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
KASHIYAMA日本樫山工业真空泵中村到货SDL12E50 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
KASHIYAMA日本樫山工业真空泵中村到货SDL20E50 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
KASHIYAMA日本樫山工业真空泵中村到货SDL36E60 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
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