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KASHIYAMA日本樫山工业真空泵中村到货SDL3600 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
KASHIYAMA日本樫山工业真空泵中村到货MU100X 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
KASHIYAMA日本樫山工业真空泵中村到货MU180X 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
KASHIYAMA日本樫山工业真空泵中村到货MU300X 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
KASHIYAMA日本樫山工业真空泵中村到货MU600X 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
中村供应：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵MU1218X 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
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