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中村供应：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵MU20N18X 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
中村供应：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵MU100P/H 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
现货库存：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵MU180P/H 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
现货库存：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵MU300P/H 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
现货库存：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵MU600P/H 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
现货库存：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵MU1218P/H 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
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