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现货库存：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵MU20N18P 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
现货库存：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵MU30N18P 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
中村供货：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry7E 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
中村供货：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry15E 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
中村供货：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry30E 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
中村供货：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry36E 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
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