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中村供货：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry60E 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
中村供货：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry100E 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry300E 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry7G 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry15G 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry30G 无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。
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